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產業資訊 客戶服務 研發成果
可移轉技術
光阻材料開發技術
其他
技術簡介
應用技術有G-line與I-line用光阻劑,依產業別不同分為半導體、液晶顯示器、發光二極體與TP觸控等相關應用,爲了符合產業界的需求,將往更高解析度、更寬製程寬容度方向前進。

聯繫窗口 
相關事宜,請聯繫
E-mail:pidcc4@pidc.org.tw 
聯絡人:04-23595900 企劃推廣 #224 #227 

 
技術規格
1. 較高解析度 10~20µm
2. 高抗蝕刻能力、高製程寬容度
可應用範圍
光學 Optical
接受技術者建議具備設備
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