產業新聞
晶呈進軍濕式製程材料
產業訊息2023/1/4
經濟日報
專業氣體廠晶呈科技（4768）擴大半導體材料布局，昨（3）日宣布入主台灣芯電應用科技（台灣芯電），取得70%控制性股權，切入濕式製程材料市場。晶呈表示，此次與台灣芯電合作，看好其濕式化學品研發能力與技術實力，未來透過業務行銷實力，雙方在資源上達到互補，共創營運動能。
針對入主金額部分，晶呈表示，基於雙方合約的關係，暫時無法對外公開。
雙方結緣於一次研討會場合，晶呈董事長陳亞理和台灣芯電董事長蔡文財在這場研討會相識，雙方交換意見，暢談經營理念，對台灣半導體關鍵原物料發展都有使命感，認為應該建立關鍵原物料製造技術自主研發能力及完整供應鏈，經過多次溝通，開啟未來事業合作發展的契機。
台灣芯電為濕式化學品製造商，主要產品技術開發為去光阻液（Stripper），競爭優勢及特點為可配合客戶製程需求調整配方達到製程最佳化、無Hydroxylamine（HAD）配方（因HDA有爆炸及斷料風險）、無N-甲基吡咯烷酮（NMP）配方（歐盟2022年開始管制NMP）。
據統計，目前去光阻液全球產值達新台幣150億元，台灣產值達50億元。台灣芯電的去光阻液已經過客戶認證並開始交貨。除去光阻液的技術研發，台灣芯電另專注於CMP Cleaner及CMP Slurry的技術開發，期許不久就有新產品問世。
針對入主金額部分，晶呈表示，基於雙方合約的關係，暫時無法對外公開。
雙方結緣於一次研討會場合，晶呈董事長陳亞理和台灣芯電董事長蔡文財在這場研討會相識，雙方交換意見，暢談經營理念，對台灣半導體關鍵原物料發展都有使命感，認為應該建立關鍵原物料製造技術自主研發能力及完整供應鏈，經過多次溝通，開啟未來事業合作發展的契機。
台灣芯電為濕式化學品製造商，主要產品技術開發為去光阻液（Stripper），競爭優勢及特點為可配合客戶製程需求調整配方達到製程最佳化、無Hydroxylamine（HAD）配方（因HDA有爆炸及斷料風險）、無N-甲基吡咯烷酮（NMP）配方（歐盟2022年開始管制NMP）。
據統計，目前去光阻液全球產值達新台幣150億元，台灣產值達50億元。台灣芯電的去光阻液已經過客戶認證並開始交貨。除去光阻液的技術研發，台灣芯電另專注於CMP Cleaner及CMP Slurry的技術開發，期許不久就有新產品問世。